行业应用

值得信赖的高质量工业泵供应商

CMP抛光液输送

CMP(化学机械抛光)是半导体晶圆制造的关键工艺环节,抛光液(CMP Slurry)作为核心消耗品,其稳定、精准、无污染的输送直接决定了晶圆平坦化质量与良率。JONSN-MRA系列精密磁力齿轮泵,专为CMP抛光液等含纳米磨料的腐蚀性浆料输送场景设计,以无泄漏磁力驱动、低剪切稳流输送和全耐腐蚀流道结构,为半导体制造提供可靠的流体输送保障。

一、行业痛点

痛点

问题描述

对工艺的影响

磨料磨损

CMP浆料含纳米级SiO₂/Al₂O₃/CeO₂磨料颗粒,硬度高,常规泵内部件快速磨损

泵寿命短,维护频繁,停机成本高

颗粒团聚沉降

磨料颗粒在低流速或高剪切区域易团聚沉降,分布不均

抛光速率波动,晶圆表面出现划痕或碟形坑

化学腐蚀

浆料pH值跨度大(酸性至碱性),含氧化剂、络合剂等腐蚀性成分

泵体腐蚀导致金属离子污染,危及晶圆良率

流量脉动

晶圆抛光要求浆料连续均匀供给,流量脉动会导致抛光不均

晶圆平坦化一致性差,局部过抛或欠抛

剪切降解

高剪切力会破坏磨料颗粒的粒径分布与悬浮稳定性

浆料性能下降,有效颗粒比例降低

二、行业要求

要求维度

具体指标

流量精度

±1% 以内,确保抛光速率稳定可控

流量脉动

<3%,保障浆料连续均匀供给

耐腐蚀性

流道全氟塑料/陶瓷材质,耐受pH 1~14全范围腐蚀

金属离子污染控制

流道零金属裸露,溶出离子 < 1 ppb

剪切控制

低剪切设计,保持磨料粒径分布(D50)不变

密封方式

磁力耦合无动密封,零泄漏,杜绝环境污染与浆料外泄

清洁兼容性

支持CIP在线清洗,流道无死角,防止交叉污染

防护等级

IP55及以上,适应洁净室环境

 

JONSN-MRA 系列是专为半导体工艺介质精密输送而设计的磁驱动齿轮泵产品线,以无密封泄漏、流量精确一致、化学兼容为核心设计理念。

参数项

MRA 系列规格

驱动方式

磁驱动(无密封零泄漏)

流量范围

0.01 – 50 mL/min

流量精度

±0.3% – ±0.5%

流量一致性(批间)

±0.5% – ±1%

每转排量

0.05 – 0.50 mL/rev

最大出口压力

0.6 – 1.0 MPa

粘度兼容范围

1 – 5,000 cP

泵体材质

PTFE / PEEK / SS316L

齿轮材质

PEEK / PTFE / SS316L

温控接口

可选集成加热套(±0.5°C)

接口尺寸

1/8" – 1/4" NPT

洁净等级

ISO Class 5

适用介质

光刻胶 / 显影液 / 蚀刻液 / CMP Slurry

 

光刻胶精密输送工作流程

CMP浆料供应

过滤与微粒控制

JONSN-MR系列精密计量输送

流量闭环控制

抛光头供给

CIP在线清洗

 

JONSN核心优势

优势

技术支撑

客户价值

零泄漏磁力驱动

磁力耦合器取代传统机械密封,无动密封点

杜绝浆料泄漏与环境污染,满足洁净室要求

全耐腐蚀流道

泵腔、齿轮均采用PTFE衬里+工程陶瓷材质

耐受pH 1~14全范围腐蚀,金属离子溶出<1ppb

低剪切稳流设计

优化齿轮型线与间隙配合,控制流体剪切速率

保护磨料粒径分布,延长浆料有效寿命

高精度计量

精密齿轮加工+伺服驱动,流量精度±0.5%~1%

抛光速率稳定,提升晶圆平坦化一致性

超低脉动

多齿数齿轮+消脉动结构设计

流量脉动<3%,避免抛光不均缺陷

长寿命耐磨

工程陶瓷齿轮硬度高、耐磨性优异

使用寿命较常规泵提升3~5倍,降低维护成本

CIP兼容设计

流道无死角,支持在线清洗与在线灭菌

减少换线停机时间,防止交叉污染

 

常见问题与解决方案(Q&A)

常见问题

原因分析

JONSN解决方案

泵使用寿命短,频繁更换

纳米磨料颗粒对泵内部件持续冲刷磨损

采用工程陶瓷齿轮+PTFE衬里泵腔,耐磨寿命提升3~5倍

浆料中金属离子超标

泵体金属部件被腐蚀溶出,污染浆料

全塑/陶瓷流道,零金属裸露,离子溶出<1ppb

抛光速率波动大

流量不稳定,浆料供给脉动

伺服驱动+闭环控制,脉动<2%,流量精度±0.5%

浆料颗粒团聚沉降

泵内存在高剪切死区或低流速区域

低剪切齿轮型线+无死角流道,保持颗粒悬浮均匀

换线清洗困难

泵腔存在死角,浆料残留难清除

CIP兼容设计,流道光滑无滞留,支持自动在线清洗

管路存在泄漏风险

传统机械密封在腐蚀环境下易失效

磁力耦合无动密封,从结构上杜绝泄漏

 

JONSN-MR系列精密磁力齿轮泵,以无泄漏磁力驱动、全耐腐蚀流道和低剪切稳流设计,为半导体CMP抛光液输送提供高精度、高可靠、零污染的流体解决方案。